000			01737nam a2200181Ia 4500
005			20250401110852.0
008			241209s9999 xx 000 0 und d
020			_afiq4017
082			_aT/660.2/C23
100			_aCandiotti Serrano, Cristina Victoria
245		0	_aCondiciones favorables para la obtención de óxido de plata de chatarra electrónica tratada con ácido nítrico
260			_aCallao _c2017
300			_a84
505			_aPara la realización del presente trabajo se implementé el sistema de pruebas a nivel laboratorio donde se obtuvo óxido de plata al 99.9% de pureza, la chatarra electrónica previamente pesada se hizo reaccionar con 150 ml de ácido nítrico a diferentes concentraciones, las concentraciones usadas para el procedimiento realizado fue el siguiente: 264%, 2.08%, 1.54%, 1.01%; se llevó a una temperatura de 90- 95 C durante 3 horas. Se monitoreo la reacción cada 5 minutos y se analizó la plata lixiviada por absorción atómica. La solución lixiviada de nitrato de platas más contaminantes (Cu, Fe y Cr), se precipitó con cloruro de sodio al 5%, obteniendo un precipitado de cloruro de plata, el cual fue recuperado y tratado por vía seca obteniéndose plata metálica pura. La plata metálica fue disuelta con ácido nítrico, luego se adicioné hidróxido de sodio al 5%, se obtuvo un precipitado de hidróxido de plata. Este precipitado fue luego deshidratado en una estufa a una temperatura menor de los 280 C para obtener el óxido de plata. Finalmente se obtuvo óxido de plata al 99.9 % y la mejor condición de concentración de ácido nítrico fue 2.64%.
700			_a Ramos Salazar, Johana Cristina
856			_uhttps://hdl.handle.net/20.500.12952/2869
942			_yTPT _cT
999			_c46866 _d46866