| 000 | 00964nam a2200145Ia 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 005 | 20250107234327.0 | ||
| 008 | 250106s2008 xx 000 0 und d | ||
| 020 | _a17917 | ||
| 100 | _aMontero Arteaga, Wimpper Daniel | ||
| 245 | 0 | _a"Deposición de películas delgadas con espesor uniforme mediante la técnica de evaporación iónica" | |
| 260 |
_aCallao _c2008 |
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| 300 |
_a61 _eNo |
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| 505 | _aLa técnica de películas delgadas permite modificar las propiedades superficiales de otro material. La producción de películas delgadas puede llevarse a cabo por diferentes métodos. Sin embargo, la evaporación iónica ha demostrado ser la más rápida y eficiente.La técnica consiste en someter un gas inerte, a baja presión, a choques continuos con electrones, provenientes del plasma, de tal manera que este gas llamado de proceso se ionize, y sea acelerado mediante campo eléctrico, colisionando con el material al cual deseamos evaporar. | ||
| 942 | _cIFI | ||
| 999 |
_c75016 _d75016 |
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